真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如,真空镀铝、真空镀铬等。Parylene HT(SCS)该材料具有更低的介电常数(即透波性能好)、好的稳固性和防水、防霉、防盐雾性能.短期耐温可达450摄氏度,长期耐温可达350摄氏度,并具有强的抗紫外线能力.更适合作为高频微波器件的防护材料。
Parylene真空镀膜以其良好的耐腐蚀、耐,、 低阻滞性、低摩擦系数及生物相容性,在国际临床运用的生物的表面涂层上,将逐步取代TiNi(镍钛)合金涂层而被列为*材料。如骨钉、探针、针头、临时手术器械、导尿管、制动器及耳蜗植入器,心脏起搏器、脑电极、植入式传感器、射频、血液分析传感器和高频手术刀等微型电子。
Parylene薄膜具有厚度均匀、致密无、透明无应力、优异的电绝缘性和防护性等特点,可应用在光电材料、磁性材料、服装及保护等领域,因其生物兼容性和生物稳定性,还可以应用在领域。然而,需要注意的是,Parylene涂覆对于材料表面的要求比较高,要求附着力好,无杂质,因此在进行涂覆前,必须对物件的表面进行一定预处理,以增加涂覆物件的附着力。
派瑞林纳米涂层与通常所使用的三防漆有很大的区别,相比之下,三防漆更不易让PCB以及元器件散热,导电性能不佳,三防漆会释放有毒有害物质,而PCB纳米潮涂层更环保,符合ROHS,REACH,MSDS等欧盟认证,其所形成的涂层肉眼不可视,散热性能很好,导电性能也不受影响。
原子层沉积(ALD)是一种沉积原子级薄膜的技术,它是以一种连续脉冲的方式在样品表面和反应前驱体材料之间发生化学反应。与传统的等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术相比,沉积速率相对较慢,但是它可在高深宽比的沟槽和通孔结构上沉积均匀薄膜。另外,在原子层沉积过程中,样品表面上没有物理和电学损伤,而在PECVD过程中由于离子轰击这种损伤却不可避免。此外,通过使用不同的反应材料可沉积各种薄膜(氧化物,氟化物,氮化物,金属等)。派瑞林是一种对二的聚合物。用的真空气相沉积工艺制备,由活性小分子在基材表面“生长”出完全敷形的聚合物薄膜涂层,它能涂敷到各种形状的表面,包括尖锐棱边、裂経和内表面。这种室温沉积制备的0.1-100微米薄膜涂层,厚度均匀、致密无、透明无应カ、不含助剂、不损伤工件、有优异的电绝缘性和防护性,是当代较有效的防潮、防霉、防盐雾涂层材料。精细的尺寸和优异的性能结合,使派瑞林在要求和高可靠性的当代高新技术产品中得到了越来越多的应用。
有机高分子奈米薄膜,属高绝缘性、无、膜厚一致性的耐薄膜。其防尘、防潮、防水的耐透气性效果,可使产品达到国际性防尘、防水的IP等级规范。例如,可使马达组立、定子、转子达到防尘、防水的IP5、5规范;对硅钢片的耐压及防线伤或NB电池回路基板,抗电解液腐蚀等都有其显著的成效。
以上信息由专业从事锂电池parylene涂层的菱威纳米于2024/3/29 8:11:33发布
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