汕尾硅胶导管镀膜在线咨询「菱威纳米」

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可耐5000V且可随厚度增加而持续提高

绝缘性能不会受环境温度和湿度的影响；

Parylene 的介电常数和介电损耗均非常低且不受吸潮的影响；

Parylene 的高纯度、表面憎水性及不存在任何痕量的离子污染又保证了极高的体积电阻率和表面电阻率；

极低的高频损耗，特别适合超高频器件。

用环氧树脂材料进行电泳涂敷，但电泳涂敷时工件表面必须有一挂点，挂点的修补不仅费工费时，而且质量难以保证用。另外当绕线器件很小时，使用传统胶带做绝缘就很困难。用Parylene涂层能够有效此问题并具有大量生产降低成本的优势 。

       派瑞林涂层是化学气相沉积法，是反应物质在气态条件下发生空间气相化学反应，在固态基体表面直接生成固态物质，进而在基材表面形成涂层的一种工艺技术。派瑞林薄膜制备过程分为三步：单体的汽化、裂解、在基材表面进行附着沉积。

       紫外线照射的薄膜与未曝光的薄膜之间的故障时间之间的巨大差异为聚对二C和N的正确使用条件提供了重要的认识。聚对二D，C，N，AF4的化学结构定义了由于紫外线引起的降解接触。聚对二N是未取代的烃分子，聚对二C每个重复单元具有一个加氯基，聚对二D每个重复单元具有两个加氯基。相比之下，聚对二AF4用氟原子取代了化学品苯环上的氢原子，从而大大增强了其紫外线稳定性。

       20世纪60年代美国联合碳化物公司推出了Parylene派瑞林系列新型高分子敷型涂层材料，由于其优异的阻隔性能在防潮、防霉、防盐雾的三防涂层材料领域得到广泛应用。派瑞林原料C型、N型、D型、F型、AF4型是派瑞林聚合物的新一代衍生物，包括苯环取代和亚取代两类， 氟原子的引入能够较好地改善薄膜的电学性能和热稳定性。Parylene系列衍生物的研究主要集中在单体环二体的合成方法及薄膜的特性研究，有关薄膜制备方法的报道较少，曾有采用液态前驱体进行薄膜制备的文献报道。

       原子层沉积（ALD）是一种沉积原子级薄膜的技术，它是以一种连续脉冲的方式在样品表面和反应前驱体材料之间发生化学反应。与传统的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术相比，沉积速率相对较慢，但是它可在高深宽比的沟槽和通孔结构上沉积均匀薄膜。另外，在原子层沉积过程中，样品表面上没有物理和电学损伤，而在PECVD过程中由于离子轰击这种损伤却不可避免。此外，通过使用不同的反应材料可沉积各种薄膜（氧化物，氟化物，氮化物，金属等）。

以上信息由专业从事硅胶导管镀膜的菱威纳米于2024/6/27 9:59:24发布

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